MoS2 antisites&vacancies


Autor:
Jinhua Hong et al.
Attribution:
Obraz jest oznaczony jako „Wymagane uznanie autorstwa” (attribution required), ale nie podano żadnych informacji o uznaniu autorstwa. Prawdopodobnie parametr atrybucji został pominięty podczas korzystania z szablonu MediaWiki dla licencji CC-BY. Autorzy mogą znaleźć tutaj przykład prawidłowego korzystania z szablonów.
Credit:
http://www.nature.com/ncomms/2015/150219/ncomms7293/abs/ncomms7293.html
Krótki link:
https://plwiki.pl/b/c60f8
źródło:
Wikimedia Commons
Wymiary:
880 x 1570 Pixel (560271 Bytes)
Opis:

Atomic resolved STEM–ADF images to reveal the distribution of different point defects. (a) Antisite defects in PVD MoS2 monolayers. Scale

bar, 1 nm. (b) Vacancies including VS and VS2 observed in ME monolayers, similar to that observed for CVD sample. Scale bar, 1 nm.
Licencja:
CC BY 4.0
Komentarz do licencji:
w:pl:Licencje Creative Commons
uznanie autorstwa 		Ten plik udostępniony jest na licencji Creative Commons Uznanie autorstwa 4.0 Międzynarodowe.
Wolno:
  • dzielić się – kopiować, rozpowszechniać, odtwarzać i wykonywać utwór
  • modyfikować – tworzyć utwory zależne
Na następujących warunkach:
  • uznanie autorstwa – musisz określić autorstwo utworu, podać link do licencji, a także wskazać czy utwór został zmieniony. Możesz to zrobić w każdy rozsądny sposób, o ile nie będzie to sugerować, że licencjodawca popiera Ciebie lub Twoje użycie utworu.

Warunki licencji:
Creative Commons Attribution 4.0

Więcej informacji o licencji można znaleźć tutaj. Ostatnia aktualizacja: Thu, 28 Oct 2021 06:00:35 GMT