MoS2 antisites&vacancies
Autor:
Jinhua Hong et al.
Attribution:
Obraz jest oznaczony jako „Wymagane uznanie autorstwa” (attribution required), ale nie podano żadnych informacji o uznaniu autorstwa. Prawdopodobnie parametr atrybucji został pominięty podczas korzystania z szablonu MediaWiki dla licencji CC-BY. Autorzy mogą znaleźć tutaj przykład prawidłowego korzystania z szablonów.
Krótki link:
źródło:
Wymiary:
880 x 1570 Pixel (560271 Bytes)
Opis:
Atomic resolved STEM–ADF images to reveal the distribution of different point defects. (a) Antisite defects in PVD MoS2 monolayers. Scale
bar, 1 nm. (b) Vacancies including VS and VS2 observed in ME monolayers, similar to that observed for CVD sample. Scale bar, 1 nm.
Licencja:
Komentarz do licencji:
|
Ten plik udostępniony jest na licencji Creative Commons Uznanie autorstwa 4.0 Międzynarodowe. | |
|
Warunki licencji:
Creative Commons Attribution 4.0
Więcej informacji o licencji można znaleźć tutaj. Ostatnia aktualizacja: Thu, 28 Oct 2021 06:00:35 GMT